কোষ দূষণ বলতে বিদেশী পদার্থকে বোঝায় যা কোষ সংস্কৃতির পরিবেশে মিশ্রিত হয়ে ক্ষতিকারক উপাদান তৈরি করে এবং কোষের অশুচিতা সৃষ্টি করে। 1। কোষ সংস্কৃতির জন্য প্রয়োজনীয় পুষ্টি, যেমন অ্যামিনো অ্যাসিডও কোষের জন্য বিষাক্ত হবে যদি ঘনত্ব উপযুক্ত সীমা অতিক্রম করে।-এ কোষের চাষ করার সময় অনেকগুলি সাধারণ দূষণ রয়েছে, যার মধ্যে রাসায়নিক দূষণ একটি অত্যন্ত গুরুত্বপূর্ণ এবং সাধারণ প্রকার৷ বা এই রাসায়নিকগুলি সর্বদা কোষের বৃদ্ধিকে বাধা দেয় না। কিছু পদার্থ, যেমন হরমোন, কোষের কারখানায় কোষের বৃদ্ধিকে উন্নীত করতে পারে, কিন্তু অপরিশোধিত পদার্থ, মিডিয়া, জল, সিরাম, গ্রোথ কোফ্যাক্টর এবং রিএজেন্ট সংরক্ষণের জন্য পাত্র সবই রাসায়নিক দূষণের উৎস হয়ে উঠতে পারে।
2। বিভিন্ন সেল লাইনের সর্বোত্তম সংস্কৃতির অবস্থার অধীনে সিরাম এবং বাফারের জন্য বিভিন্ন প্রয়োজনীয়তা রয়েছে, যা সংস্কৃতির সময় কঠোরভাবে নিয়ন্ত্রণ করা উচিত।
3। সবচেয়ে সাধারণ রাসায়নিক দূষণ হল অবশিষ্টাংশ ডিনাচুরেন্ট বা সাবান (সাধারণত বোতলের ক্যাপের ভিতরের পৃষ্ঠে) গ্লাস পরিষ্কারের প্রক্রিয়ায় অবশিষ্ট থাকে।
4। জল হল একমাত্র যৌগ যা দৃঢ় হওয়ার সময় ফুলে যায়, তাই ক্রিওপ্রিজারভিং কোষের জন্য একটি পাত্র বাছাই করার সময় এই ফ্যাক্টরটি বিবেচনায় নেওয়া উচিত।
5। ধাতব আয়ন, জৈব অণু, অন্তঃকোষীয় টক্সিন এবং অন্যান্য পদার্থের দ্বারা জলের দূষণ এড়াতে, তরল তৈরি এবং পাত্র পরিষ্কার করার সময় অমেধ্য ছাড়া অতি বিশুদ্ধ জল ব্যবহার করা আবশ্যক৷
6৷ প্রাণীর সিরাম হল একটি প্রাকৃতিক মাধ্যম যা সাধারণত কোষ সংস্কৃতিতে ব্যবহৃত হয়, তবে সিরাম জৈবিক এবং রাসায়নিক দূষণের একটি সম্ভাব্য উৎস। বিভিন্ন কোষে সিরামের বৃদ্ধি-উন্নয়ন ক্ষমতা এবং বিষাক্ত এবং পার্শ্বপ্রতিক্রিয়া নির্ভর করে এই কোষগুলির পার্থক্য কার্যকারিতা, টিস্যুর উৎস এবং মাধ্যমের গঠনের মতো বিষয়গুলির উপর। পরীক্ষণের একটি সিরিজ পরিচালনা করার সময়, পরীক্ষার পুনরাবৃত্তিযোগ্যতা নিশ্চিত করার জন্য, একই ব্যাচের সিরাম ব্যবহার করা সর্বোত্তম। এছাড়াও, সংস্কৃতির মাধ্যম এবং বিকারকগুলি সঠিকভাবে প্রস্তুত করা এবং সংরক্ষণ করাও অত্যন্ত গুরুত্বপূর্ণ। তরল ভলিউম গণনার ত্রুটি এবং অনুরূপ যৌগগুলির মিশ্রণের মতো ত্রুটিগুলি এড়াতে স্ট্যান্ডার্ড অপারেটিং পদ্ধতিগুলি গ্রহণ করা উচিত। কোষ সংস্কৃতি পরীক্ষায় এই কারণগুলি নিয়ন্ত্রণ করা দূষণের সম্ভাবনা হ্রাস করতে পারে এবং পরীক্ষামূলক প্রক্রিয়াটিকে দ্রুততর করতে পারে।
5. In order to avoid the contamination of water by metal ions, organic molecules, intracellular toxins and other substances, ultrapure water without impurities must be used when preparing liquids and cleaning containers.
6. Animal serum is a natural medium commonly used in cell culture, but serum is a potential source of biological and chemical contamination. The growth-promoting ability and toxic and side effects of serum on different cells depend on factors such as the differentiation function of these cells, the tissue source and the composition of the medium. When conducting a series of experiments, in order to ensure the repeatability of the experiment, it is best to use the same batch of serum.
The above are common chemical contaminations when culturing cells in cell factories. In addition, it is also very important to prepare and store the culture medium and reagents correctly. Standard operating procedures should be taken to avoid errors such as liquid volume calculation errors and mixing of similar compounds. Controlling these factors in cell culture experiments can reduce the probability of contamination and speed up the experimental process.
The FAI climbed 5.9 percent year-on-year in the first 11 months of 2018, quickening from the 5.7-percent growth in Jan-Oct, the National Bureau of Statistics (NBS) said Friday in an online statement.
The key indicator of investment, dubbed a major growth driver, hit the bottom in August and has since started to rebound steadily.
In the face of emerging economic challenges home and abroad, China has stepped up efforts to stabilize investment, in particular rolling out measures to motivate private investors and channel funds into infrastructure.
Friday's data showed private investment, accounting for more than 60 percent of the total FAI, expanded by a brisk 8.7 percent.
NBS spokesperson Mao Shengyong said funds into weak economic links registered rapid increases as investment in environmental protection and agriculture jumped 42 percent and 12.5 percent respectively, much faster than the average.
In breakdown, investment in high-tech and equipment manufacturing remained vigorous with 16.1-percent and 11.6-percent increases respectively in the first 11 months. Infrastructure investment gained 3.7 percent, staying flat. Investment in property development rose 9.7 percent, also unchanged.